一、適用范圍
鍍層均勻性及鍍層質量要求較高的電鍍、電鑄處理工藝。
二、應用領域
應用于電子、封裝、精密元器件、新材料等產品的電鍍、電鑄工藝處理。
三、設備特點
1、擁有自主知識產權，獲得國家發明專利；（專利號：ZL 2011 1 0417893.6 專利類型：中國發明專利）（專利號：ZL 2011 1 0417892.1 專利類型：中國發明專利）
2、旋轉方式多樣，可實現公轉、公轉+自轉，轉速、轉向可調；
3、傳動方式多樣可實現上傳動、下傳動，亦可根據用戶要求定制；
4、大幅改善電力場、溫度場、濃度場的均勻性，提高鍍層質量及均勻性， COV值較傳統掛鍍提高5-10倍。
四、應用現場
